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          PCB化學(xué)鎳金常見(jiàn)問(wèn)題及分析-找亞美化學(xué)鎳鈀金生產(chǎn)線專家
          來(lái)源:亞美化學(xué)鎳鈀金生產(chǎn)線 | 作者:hzyamei | 發(fā)布時(shí)間: 116天前 | 4574 次瀏覽 | 分享到:
          化學(xué)鎳金工藝具有高度的平整性、均勻性、可焊性或耐腐蝕性等,正日益受到廣大客戶的青睞,本文就實(shí)際生產(chǎn)中遇到一些常見(jiàn)品質(zhì)問(wèn)題的原因及對(duì)策進(jìn)行探討,

          化學(xué)鎳金工藝具有高度的平整性、均勻性、可焊性或耐腐蝕性等,正日益受到廣大客戶的青睞,本文就實(shí)際生產(chǎn)中遇到一些常見(jiàn)品質(zhì)問(wèn)題的原因及對(duì)策進(jìn)行探討,分別從滲鍍、漏鍍、鎳層“發(fā)白”、金層“粗糙、發(fā)白”等十個(gè)方面詳細(xì)解說(shuō),具體的跟隨亞美化學(xué)鎳鈀金生產(chǎn)線化學(xué)銅及除膠渣生產(chǎn)線化學(xué)鎳金生產(chǎn)設(shè)備專家一起來(lái)了解一下。

          問(wèn)題產(chǎn)生原因分析:

          1、鎳缸活性太強(qiáng);
          2、前處理活化鈀濃度高或被污染(金屬鐵、銅離子污染或局部溫度高會(huì)加速藥水老化)、浸泡板時(shí)間長(zhǎng)、溫度過(guò)高或在活化缸后(即沉鎳前) 水洗不足;
          3、前工序磨板太深甚至傷基材易吸附鈀、磨板前未徹底清潔設(shè)備上之輥轆且水壓不足難沖洗干凈線路邊緣上殘留之銅粉(沒(méi)有完全被微蝕掉)、蝕刻后殘銅、沉鎳時(shí)易產(chǎn)生滲鍍; 4。化銅PTH 前處理膠體活化鈀濃度高。
          相應(yīng)的改善對(duì)策:
          1、嚴(yán)格控制鎳缸負(fù)載在0.3~0.8dm2/L 及適當(dāng)穩(wěn)定劑,當(dāng)陽(yáng)極保護(hù)電流》0.8A 時(shí)需倒缸;
          2、嚴(yán)格控制活化槽液濃度、浸板時(shí)間、工作溫度、水洗時(shí)間、活化后板子充分水洗及盡量避免槽液污染;
          3、加強(qiáng)化鎳前QC 板子檢查蝕刻后確保無(wú)殘銅、磨刷設(shè)備清潔、微蝕深度、磨板深度以及水壓必須要充分(普通軟板刷磨選擇1000~1500‘,硬板刷磨800~1000’ ,現(xiàn)常采用噴刷機(jī)對(duì)外觀品質(zhì)更能夠保持色澤一致);
          4、化銅PTH 前處理膠體活化鈀濃度應(yīng)適當(dāng)控制低些。
          問(wèn)題產(chǎn)生原因分析:
          1、化鎳前處理活化鈀濃度太低、浸活化時(shí)間、溫度不夠、活化污染或沉鎳前的板子滯留在水槽里時(shí)間過(guò)長(zhǎng)(鈍化);
          2、銅面有殘膠或銅面處理不干凈(退錫不凈,外界污染或前工序污染);
          3、沉鎳槽中藥水穩(wěn)定劑過(guò)量、溫度過(guò)低、活性不夠(鎳層呈暗黑,沉金后板面金色偏暗紅色)、負(fù)載量不足、金屬或有機(jī)污染或攪拌太激烈易產(chǎn)生“漏鍍”。銅面氧化嚴(yán)重或顯影后水洗不良,鎳槽PH、銅面受硫化物污染或控制添加不當(dāng)。
          相應(yīng)的改善對(duì)策:
          1、控制好活化槽液鈀濃度、浸板時(shí)間、工作溫度、減少銅離子污染(活化銅離子大于100PPM時(shí)需更換)以及確保沉鎳前的板子時(shí)間滯留在水槽時(shí)間過(guò)長(zhǎng);
          2、化鎳前處理時(shí)確保板子銅面無(wú)殘膠以及銅面處理干凈;
          3、控制好化鎳槽各操作參數(shù)、確保化鎳前活性、槽內(nèi)增加輔助銅板來(lái)提高負(fù)載量、避免金屬或有機(jī)污染和控制好攪拌不宜過(guò)激烈。
          問(wèn)題產(chǎn)生原因分析:
          鎳槽金屬鎳離子過(guò)低或過(guò)高、溫度低、PH 值低、活性不夠、時(shí)間不夠、負(fù)載量大、磷含量偏高(線路或孔邊緣發(fā)白) 或鎳浴液34MTO。
          相應(yīng)的改善對(duì)策:
          金屬鎳離子調(diào)整到范圍內(nèi)、控制溫度、PH 值、提高活性、減少負(fù)載量、降低消耗磷含量達(dá)到允許范圍值或鎳達(dá)到34MTO 時(shí)須加強(qiáng)測(cè)試并視品質(zhì)要求選擇更換。
          問(wèn)題產(chǎn)生原因分析:
          1、來(lái)料銅面殘留膠漬或藥水、本身銅面不潔或銅層粗糙、銅面氧化嚴(yán)重、微蝕過(guò)度、微蝕銅離子高(不均勻)、退錫不凈;
          2、金槽污染(金屬鎳雜質(zhì)污染)或失衡(負(fù)載量過(guò)大或過(guò)小)、溫度低、PH值低、金濃度低、比重低、穩(wěn)定劑(絡(luò)合劑) 太多、金層厚度不足或金槽藥水達(dá)到4MTO或以上;
          3、本身沉鎳不良(鎳層薄【關(guān)鍵詞329】或呈陰陽(yáng)色),如沉金后金層外觀灰暗,其主要是鎳層灰暗,鎳浴液活性差(不穩(wěn)定)、鎳缸循環(huán)局部過(guò)快和鎳缸溫度局部過(guò)熱或鎳穩(wěn)定劑濃度過(guò)高;
          4、化學(xué)鎳溶液中有固體顆粒、阻焊發(fā)白或脫落(曝光量不夠或烤溫時(shí)間不夠) 導(dǎo)致鎳金藥水、 鈀或銅少量污染;
          5、鎳槽鍍液PH太高或水質(zhì)不潔。
          相應(yīng)的改善對(duì)策:
          1、加強(qiáng)檢查來(lái)料、電鍍銅層質(zhì)量或選優(yōu)質(zhì)板材、控制微蝕咬銅速率、退錫干凈(化鎳前的板子銅面必須確保干凈);
          2、檢測(cè)金槽浴液各成分必須控制在范圍內(nèi);
          3、改善沉鎳質(zhì)量(把握好活性/MTO 以及其它成分的控制)、確保鎳槽循環(huán)過(guò)濾和槽液溫度達(dá)到均勻以及控制好鎳穩(wěn)定劑在范圍內(nèi);
          4、加強(qiáng)化學(xué)鎳溶液過(guò)濾及避免鈀或銅離子等雜質(zhì)污染; 5。確保水質(zhì)量以及鎳槽PH 值維持在范圍內(nèi)操作。

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